| UTML / HTML / HT / LT | |||
| Step 1 | 300 | 10 | 30 |
| Step 2 | 1500 | 10 | 120 |
| 0 | 0 | ||
| Son Step | 200 | 10 | 30 |
| UTML STML | |||
| Step 1 | 300 | 10 | 30 |
| Step 2 | 1550 | 10 | 120 |
| 0 | 0 | 0 | |
| Son Step | 200 | 10 | 30 |
Çok üye yüklemesi yaparsanız ısınma ve soğuma hızını 10C den daha yavaş yapmanız gerekli olabilir.
| UTML / HTML / HT / LT | |||
| Step 1 | 300 | 10 | 0 |
| Step 2 | 1515 | 35 | 30 |
| 0 | 0 | ||
| Son Step | 200 | 0 | 30 |
| UTML STML | |||
| Step 1 | 300 | 10 | 0 |
| Step 2 | 1560 | 35 | 30 |
| 0 | 0 | 0 | |
| Son Step | 200 | 0 | 30 |
Introduction In the previous blog post, we explained the natural origin of zircon and how it is transformed into zirconium oxychloride, a purified liquid material. This liquid is the starting...
Introduction In the previous blog post, we explained the natural origin of zircon and how it is transformed into zirconium oxychloride, a purified liquid material. This liquid is the starting...
(Reference image by Robert Matthew Lavinsky, Wikimedia Commons).Introduction Zirconia is widely used in modern dental restorations because of its strength, long-term durability, and natural appearance. But before it reaches dental laboratories,...
(Reference image by Robert Matthew Lavinsky, Wikimedia Commons).Introduction Zirconia is widely used in modern dental restorations because of its strength, long-term durability, and natural appearance. But before it reaches dental laboratories,...
SiO2 (silikon dioksit) yenilenmesi belirli bir sıcaklık aralığında etkili olur. Hem termodinamik açıdan, hem olumsuz etkilerden korunarak silisyum oksit tabakası yenilenmesi için en uygun sıcaklık 1300°C civarındadır.
SiO2 (silikon dioksit) yenilenmesi belirli bir sıcaklık aralığında etkili olur. Hem termodinamik açıdan, hem olumsuz etkilerden korunarak silisyum oksit tabakası yenilenmesi için en uygun sıcaklık 1300°C civarındadır.
